CY-CT1200C-S型 微波CVD系统

产品用途

CY-CT1200C-S型 微波CVD系统是一款微波快速加热的真空气氛管式炉。具有真空、可控气氛及高温的实验环境，适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构可控生长、陶瓷电容气氛烧结、氧化石墨烯还原膨化等实验

产品特点

●一体化设计、设备与真空气氛配套设备集成，安全方便
●多路质量流量控制系统，装料出料方便，只需一个卡箍即可完成
●国际品牌控制系统，稳定可靠
●工业级微波系统，使用稳定寿命长
●物料升温速度快，可达100℃/min，加热时间缩短成原来的1/5-1/10
●真空成型保温纤维轻质结构，节能高效
●7寸大触摸屏操作，简单方便
●非接触式加热，材料无污染
●可选配置高真空系统，采用高压强、耐冲击分子泵，防止意外漏气造成分子泵损坏，延长真空系统寿命
●预设4条工艺曲线，可适应不同产品工艺条件，随时保存及调出

产品安全

微波泄漏≤0.01mw/cm²（低于手机平均泄漏值）
报警：设备超温、磁控管过热、微波系统故障、压力过高

型号

CY-CT1200C-S

设备结构

箱式（落地摆放）

电压

220±10V   50Hz

额定功率

3KW

微波功率

0.01～1.4kW   连续可调

微波频率

2.45GHz

最高温度

1200℃

使用温度

≤1100℃

加热区长度

150mm

恒温区

100mm

炉管直径

Ø40mm

升温速率

≤100℃/min

控温精度

±1℃

气路数量

3（可根据用户要求配置）

工作压力

进气压力0.05-0.3MPa

静态真空度

中真空：10-100Pa/高真空：10-3Pa

控制程序

手动、恒温、自控，带数据存储，导出实验数据；曲线实时显示，40段可设工艺参数，预设4条工艺曲线，实验随时调出

控制方式

7寸触摸屏+PLC

微波泄露

＜0.01mw/cm2

报警

设备超温、磁控管过热、微波系统故障、压力过高

设备尺寸

500*1200*1200mm(长×宽×高)

设备配置

1、304不锈钢炉体1套
2、工业级微波加热系统1套
3、保温模块1套、炉管2根、料舟4个、堵头4个
4、三菱品牌PLC 1件、7寸西门子触摸屏1件
5、气路总成1套（流量计2只、真空计1套、真空泵1台、真空阀2个、316L真空接头法兰1套、压力表1个）
6、手持式微波检漏仪器1件、操作手套1套、不锈钢料钩 1把

选配

1、质量流量控制器
2、分子泵

易损品

1、保温模块
2、炉管
3、坩埚
4、堵头

售后服务承诺

1、整机质保1年（易损品除外）
2、上门安装调试、培训，免费现场指导用户物料的微波工艺
3、全国维修，设备报障2小时内响应，需要现场维修，省内24h，省外48h到现场
4、免费控制软件升级，免费电话或视频技术培训，每半年进行电话询访