湖南长仪微波科技有限公司

设备型号：CY-ST1200C-M

微波功率：3KW

最高温度：1200℃

加热空间：Ø40mm×150mm

使用气氛：氧气、空气、惰性气体、弱还原性气体

应用范围：适用于灰化、热解、分解、碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构可控生长、陶瓷电容气氛烧结、氧化石墨烯还原膨化等实验

设备型号：CY-SVT1200C-SD

微波功率：1.5KW

最高温度：1200℃

加热空间：Ø40mm×150mm

使用气氛：氧气、空气、惰性气体、弱还原性气体

应用范围：CY-SVT1200C-SD型 单端滑轨式微波管式炉 是一款微波快速升温又可快速降温的气氛微波管式炉，由单独一端滑动进出。具有可抽真空，可控气氛及高温的实验环境。

设备型号：CY-ST1200C-S

微波功率：1.5KW

最高温度：1200℃

加热空间：Ø40×150mm

使用气氛：氧气、空气、惰性气体、弱还原性气体

应用范围：CY-ST1200C-S型 单端滑轨式微波快速升降温炉 是一款微波快速升温又可快速降温的气氛微波管式炉，都设备右边单端滑动进出。具有可控气氛及高温的实验环境。 其设计滑轨可以高温时直接滑出炉管，从而可以实现快速降温。也可以将炉膛内加热到目标温度，快速将炉管推入炉膛内，可以实现快速升温效果。

设备型号：CY-SVT1200C-S

微波功率：1.5KW

最高温度：1200℃

加热空间：Ø40*120mm

使用气氛：真空、还原气体、惰性气体、空气

应用范围：CY-SVT1200C-S型 滑轨式微波管式炉 是一款微波快速升温又可快速降温的真空气氛微波管式炉。具有真空、可控气氛及高温的实验环境。 适用于碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构可控生长、陶瓷电容气氛烧结、氧化石墨烯还原膨化等实验

设备型号：CY-SC1200C-S

微波功率：1.5KW

最高温度：1200℃

加热空间：Ø40mm*150mm

使用气氛：还原气体、惰性气体、空气

应用范围：CY-SC1200C-S型 滑轨式微波CVD系统是一款微波快速升温又可快速降温的真空气氛CVD系统。具有真空、可控气氛及高温的实验环境，适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构可控生长、陶瓷电容气氛烧结、氧化石墨烯还原膨化等实验。