设备型号:CY-HM1700C-M
微波功率:3KW
最高温度:1700℃
加热空间:150×105×70mm(长×深×高)
使用气氛:氧化气氛、保护气氛
应用范围:CY-HM1700C-M型 微波高温烧结炉是一款微波快速加热的高温炉,与传统马弗炉相比将节省90%的加热时间,大大提高了效率。 适用于实验室电子陶瓷、功能陶瓷、结构陶瓷、耐磨陶瓷、透明陶瓷等的微波烧结实验研究。
设备型号:CY-VT1000C-L
微波功率:4.5KW
最高温度:1000℃
加热空间:φ80*250mm
使用气氛:真空、氧气、空气、惰性气体、弱还原性气体
应用范围:CY-VT1000C-L型 CVD微波管式炉/CVD微波真空气氛管式炉 是一款微波快速加热的气氛管式炉。具有真空、可控气氛及高温的实验环境。 适用于实验室烧结、熔化、元素分析、物理测定、新材料焙烧实验,也应用于半导体、纳米材料、碳纤维、荧光粉等工艺领域。
设备型号:CY-LI900C-L
微波功率:6KW
最高温度:1100℃
加热空间:Ø270×270mm
使用气氛:空气、氧气、惰性气体
应用范围:CY-LI900C-L型 升降式微波灰化炉 是一款采用微波加热方式,快速升温,快速降温的烧结炉。
设备型号:CY-RK100C-S
微波功率:1.5KW
最高温度:100℃
加热空间:1L
使用气氛:空气气氛
应用范围:该产品采用世界先进的微波功率自动变频控制和非脉冲连续微波加热技术,通过高精度的非接触红外温度传感器实时监测和控制反应容器内的温度。并配备电磁搅拌方式,在反应过程中,可进行冷凝回流、滴液和分水等操作,还可通过彩色液晶显示器实时观察反应容器内的反应变化。
设备型号:CY-BM1000C-S
加热空间:≤Ø50mm*100mm
应用范围:CY-BM1000C-S型 微波高温焙烧球磨机是一款新型微波加热的样品焙烧处理专用设备,可用于样品的高温焙烧、粉碎、固固相反应,样品前处理等方面。
设备型号:CY-FP1100C-S
加热空间:Ø40mm×150mm
使用气氛:氧气、空气、惰性气体、弱还原性气体
应用范围:适用于废水、废气处理,有机化合物催化合成、有机气体、液体、固体的微波热解/裂解等方面。
设备型号:CY-ST1200C-M
最高温度:1200℃
应用范围:适用于灰化、热解、分解、碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构可控生长、陶瓷电容气氛烧结、氧化石墨烯还原膨化等实验
设备型号:CY-AT1600C-L
最高温度:1600℃
加热空间:225×210×85mm(4L)
使用气氛:还原气体、惰性气体、空气
应用范围:CY-AT1600C-L型 微波气氛烧结炉是一款微波加热的抽真空通气氛的高温烧结炉。具快速抽真空、可控气氛及高温的实验的环境。 适用于陶瓷烧结工艺,如氧化物陶瓷、硬质合金、磁性材料、氮化硅陶瓷、电子陶瓷、功能陶瓷、生物陶瓷、日用及艺术陶瓷等实验;也适用于高温气氛保护反应,如还原反应、氮化反应等。
设备型号:CY-VA1600C-M
最高温度:1570℃
加热空间:200×70×70mm
使用气氛:真空
应用范围:CY-VA1600C-M型 微波真空炉是一款微波加热的高真空高温烧结炉。 适用于陶瓷烧结工艺,如氧化物陶瓷、硬质合金、磁性材料、氮化硅陶瓷、电子陶瓷、功能陶瓷、生物陶瓷、日用及艺术陶瓷等实验。
设备型号:CY-HT1600C-M
加热空间:Ø50*300mm
应用范围:CY-HT1600C-M型 微波高温管式炉 是一款微波快速加热的气氛管式炉。具有真空、可控气氛及高温的实验环境。 适用于实验室烧结、熔化、元素分析、物理测定、新材料焙烧实验,也应用于半导体、纳米材料、碳纤维、荧光粉等工艺领域。