设备型号:CY-VT1000C-L
微波功率:4.5KW
最高温度:1000℃
加热空间:φ80*250mm
使用气氛:真空、氧气、空气、惰性气体、弱还原性气体
应用范围:CY-VT1000C-L型 CVD微波管式炉/CVD微波真空气氛管式炉 是一款微波快速加热的气氛管式炉。具有真空、可控气氛及高温的实验环境。 适用于实验室烧结、熔化、元素分析、物理测定、新材料焙烧实验,也应用于半导体、纳米材料、碳纤维、荧光粉等工艺领域。
设备型号:CY-SC1200C-S
微波功率:1.5KW
最高温度:1200℃
加热空间:Ø40mm*150mm
使用气氛:还原气体、惰性气体、空气
应用范围:CY-SC1200C-S型 滑轨式微波CVD系统是一款微波快速升温又可快速降温的真空气氛CVD系统。具有真空、可控气氛及高温的实验环境,适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构可控生长、陶瓷电容气氛烧结、氧化石墨烯还原膨化等实验。
设备型号:CY-CT1200C-S
应用范围:CY-CT1200C-S型 微波CVD系统是一款微波快速加热的真空气氛管式炉。具有真空、可控气氛及高温的实验环境,适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构可控生长、陶瓷电容气氛烧结、氧化石墨烯还原膨化等实验